目前真空裝置如真空輸送、真空過濾、真空單調(diào)、真空浸漬、真空脫氣等懇求具有工作壓力高、排氣量大的低真空泵抽氣機組，真空泵廠家這類低真空抽氣機組主泵常用油封式真空泵、水蒸氣放射泵、水環(huán)泵、往復(fù)式真空泵及羅茨泵等。運用的低真空抽氣機組還需根據(jù)被抽氣體清潔程度、濕度或其他特殊懇求，配置必要的除塵器、單調(diào)罐等部件。

       真空條件下的氣體分析和分壓力測量通常是由動態(tài)質(zhì)譜計完成的。一個動態(tài)質(zhì)譜計—射頻速度過濾器是于1926年提出的。其它的動態(tài)質(zhì)譜計如射頻質(zhì)譜計、回旋質(zhì)譜計、飛行時間質(zhì)譜計和四極質(zhì)譜計都是于20世紀(jì)40年代末到50年代初提出的。早期的儀器主要用于同位素測量、帶電粒子的質(zhì)荷比測量。但當(dāng)時正值真空技術(shù)處于向超高真空發(fā)展的重要階段，因此這些質(zhì)譜計出現(xiàn)不久就被作為專用的真空質(zhì)譜計了。

       干式真空泵廠家的超高真空系統(tǒng)的全壓力側(cè)童除了早采用的B-A型超高真空規(guī)外，又發(fā)展了許多很高真空規(guī)，如冷陰極磁控規(guī)、抑制規(guī)和彎注規(guī)等。但對許多研究工作來說，僅靠全壓力數(shù)據(jù)是不夠的。例如真空系統(tǒng)中的吸附、凝結(jié)、脫附過程等，它涉及到容器表面和系統(tǒng)內(nèi)部物質(zhì)和殘余氣體分子的相互作用。這時獲得系統(tǒng)內(nèi)氣體組分和分壓力的數(shù)據(jù)比全壓力數(shù)據(jù)更能說明問題。

       真空中放置一對電極，加上高壓時，在一定的電壓下也會產(chǎn)生電極之間的電擊穿。它的擊穿與空氣中的電擊穿有很大不同。空氣中的擊穿是由于氣體中的少量自由電子在電場作用下高速度運動，與氣體分子碰撞產(chǎn)生較多的電子和離子，新生的電子和離子又同中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子。這種雪崩式的電離過程，在電極間形成了放電通道，產(chǎn)生了電弧。而真空中，由于壓強較低，氣體分子很少，在這樣的環(huán)境中，即使電極間隙中存在著電子，它們從一個電極飛向另一個電極時，也很少有機會與氣體分子碰撞。因而不可能有電子和氣體分子碰撞造成雪崩式的電擊穿。正是因為氣體分子十分稀少，真空間隙電擊穿需要在非常高的電壓下出現(xiàn)場致發(fā)射等其它現(xiàn)象時才有可能形成。從理論上推測，電場強度需達到108V/cm以上時才會造成電擊穿，實際上真空間隙的絕緣強度由于一系列不利因素，例如電極表面粗糙度、潔凈度等的影響，將低于理論計算值幾個數(shù)量級。

       真空滅弧室中的真空度很高，一般為10-3～10-6帕，此時真空間隙的絕緣強度遠遠高于1個大氣壓的空氣和SF6的絕緣強度，比變壓器油的絕緣強度還要高。正因為真空的絕緣強度很高，真空滅弧室中的所有電氣間隙都可以做得很小。例如12kV真空滅弧室的觸頭開距只有8～12mm，40.5kV真空滅弧室的觸頭開距也只要18～25mm，真空滅弧室中的其它電氣間隙也在此尺度范圍。